主要應用于半導體集成電路的高平坦度的電子設備用基板,該設備提供一種新的掩?;鍜伖夂椭圃旆椒ā?br/>
主要應用于半導體集成電路的高平坦度的電子設備用基板,該設備提供一種新的掩模基板拋光和制造方法。
優(yōu)勢
1.雙區(qū)可控加壓拋光頭;2.可實現(xiàn)拋光模和工件的原位檢測;3.具備缺陷修復功能單元;4.獨立供液管路;5.國產(chǎn)化率100%;